当前位置：品牌：
SENTECH
功能：
沉积超薄、无针孔及颗粒的膜层
用途范围：
纳米科技、微系统应用、器件钝化等
产品规格：沉积超薄、无针孔和颗粒的膜层
公司所在地：重庆
产品库存：现货及定制
可供货地区：全国
原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制，此区别于普通 CVD 或PECVD原理。
展开原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制，此区别于普通 CVD 或PECVD原理。收起
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