当前位置：品牌：
elettrorava
型号：
RIE、ICPRIE、IBE
用途范围：
基片表面去除材料
产品规格：反应离子刻蚀、电感耦合等离子体RIE、离子束刻蚀
公司所在地：重庆
产品库存：现货及定制
可供货地区：全国
刻蚀工艺包含以下设备： 反应离子刻蚀：负电偏压将这些物质加速到基板表面以进行蚀刻 电感耦合等离子体：气体物质在电感耦合等离子体源的等离子放电区域内被激活 离子束刻蚀：利用离子源从基片表面蚀刻材料
展开刻蚀工艺包含以下设备： 反应离子刻蚀：负电偏压将这些物质加速到基板表面以进行蚀刻 电感耦合等离子体：气体物质在电感耦合等离子体源的等离子放电区域内被激活 离子束刻蚀：利用离子源从基片表面蚀刻材料 收起
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